Prof. Dr. Ir. Setijo Bismo, DEA.

NIP:
196005141986031001
Fakultas:
Fakultas Teknik
Organisasi:
Teknik Kimia
Pendidikan:
S3

Profile

English:

Prof. Dr. Ir. Setijo Bismo, DEA. is a lecturer of Chemical Engineering Department, Faculty of Engineering, University of Indonesia since May 1985. He has continued the study for his Master (DEA, Diplôme d’Etudes Approfondies) in ENSIGC Toulouse - France during period of 1988 to 1989 and for the doctorate (PhD degree) programme in the same Grande Ecole (university) since September 1989 to January 1993.

In 1989, during his doctorate scholarship in France, he became a researcher and lecturer in Institut National Polytechnique de Toulouse, France. In 1990, member of researcher of Low Pressure Silicon CVD (LPCVD) and Plasma Enhanced CVD (PECVD) Technology Division, Motorola Corp., France. In 1990, furthermore, he became a young researcher on Microelectronics for CRT and Television Flat Screen, Thomson Electroniques SA., France.

He graduated as "insinyur" (same kind of BSc) in Chemical Engineering from ITB, in March 1985. He gained his Master in Process Engineering at ENSIGC – Toulouse, France in 1989. And, in Januari 1993, he hold a doctoral programme in process engineering from ENSIGC-Toulouse, France as well. He has been teaching many chemical engineering's subject such as reactor technology, reactor modeling, numerical method, applied mathematics, plant design, and plasma and ozone technology.
In the first October 2009, Prof. Setijo Bismo has obtained his professorship after 24 years working as lecturer in the university.

Bahasa Indonesia:

Prof. Dr. Ir. H. Setijo Bismo, DEA. adalah pengajar tetap pada Departemen Teknik Kimia, Fakultas Teknik Universitas Indonesia sejak bulan Mei 1985. Pak Bismo, nama panggilannya, melanjutkan studi masternya (DEA, S2 pra-doktorat di Perancis) di ENSIGC – Toulouse, Perancis dari tahun 1988 sampai 1989. ENSIGC merupakan kependekan dari Ecole Nationale Supérieure d’Ingenieure de Génie Chimique, salah satu “Sekolah Tinggi Teknik Kimia” yang terkemuka di Perancis Selatan. Pak Bismo kemudian melanjutkan studi S3-nya (doktorat) di sekolah yang sama sejak September 1989 sampai Januari 1993.

Selama tahun 1989, yaitu selama menjalani program doktoratnya di Perancis, Pak Bismo sekaligus juga menjadi peneliti dan pengajar di INPT (Institut National Polytechnique de Toulouse), Perancis. Kemudian, pada tahun 1990, menjadi anggota peneliti (tamu) di Laboratorium LPCVD (Low Pressure Silicon Chemical Vapour Deposition) dan PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition), Divisi Teknologi Motorola Corp., Perancis. Dan pada tahun yang sama pula, bergabung sebagai peneliti muda di divisi Microelectronics for CRT and Television Flat Screen, Thomson Electroniques SA., Perancis.

Pak Bismo menyelesaikan studi S1 (waktu itu bergelar ”insinyur”) di bidang Teknik Kimia, Fakultas Teknologi Industri – ITB, pada bulan Maret 1985. Beliau menyelesaikan studi S2-nya di Perancis di bidang Teknik Proses di ENSIGC – Toulouse pada tahun 1989. Dan pada bulan Januari 1993, Pak Bismo mempertahankan Disertasinya di bidang Teknik Proses juga (berjudul: Analisis dan Pemodelan Reaktor LPCVD Annular, dengan Studi Kasus Deposisi Silikon), di perguruan tinggi ENSIGC di Toulouse juga.

Pak Bismo telah mengajar dan mengampu banyak subjek dan berbagai mata kuliah di bidang Teknik Kimia, seperti: Teknologi Reaktor, Pemodelan Reaktor, Metode Numerik (untuk TK), Matematika Teknik Kimia, Perancangan Pabrik, dan kuliah kekhususan beliau sendiri, yaitu Teknologi Plasma dan Ozon.
Pada tanggal 1 Oktober 2009 yang lalu, Pak Bismo dianugerahi gelar akademis tertinggi, yaitu Guru Besar (Profesor) di bidang Teknologi Plasma dan Ozon, setelah mengabdi di UI selama lebih dari 24 tahun.